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Blank Mask 김성윤 팀장 shem.kim@sk.com

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半导体 空白光掩膜

空白光掩膜

半导体曝光工艺的核心部件

空白光掩膜是半导体工艺中在曝光工程使用的光掩膜的核心部件。用照片胶卷来比喻的话,拍摄前的胶片是空白光掩膜,拍摄后被转写的胶片是光掩模。随着半导体技术的发展,需要能够形成精细图案的高像素光掩模,因此必须具备能够满足这一要求的空白掩膜,SKC正在加快高端空白光掩膜的国产化速度。

使用案例

20200812194956732033.jpg 半导体用光掩模用途

用途

光掩模的图案形成

主要产品

产品 特性
相移空白光掩膜 运用功能性膜提高光掩模图像像素

包装单位

以特殊定制物流箱为单位供货